Micro‐ and Nanopatterning of Halide Perovskites Where Crystal Engineering for Emerging Photoelectronics Meets Integrated Device Array Technology(초록Abstract 번역)

재료 2020. 6. 13. 16:23

 

떠오르는 광전자 공학을 위한 크리스털 엔지니어링이 통합 소자 어레이 기술을 만나는 할로겐 페로브스카이트의 마이크로 및 나노 패턴

2020.06.12.

doi 주소:  https://doi.org/10.1002/adma.202000597

 

영문

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Abstract

Tremendous efforts have been devoted to developing thin film halide perovskites (HPs) for use in high‐performance photoelectronic devices, including solar cells, displays, and photodetectors. Furthermore, structured HPs with periodic micro‐ or nanopatterns have recently attracted significant interest due to their potential to not only improve the efficiency of an individual device via the controlled arrangement of HP crystals into a confined geometry, but also to technologically pixelate the device into arrays suitable for future commercialization. However, micro‐ or nanopatterning of HPs is not usually compatible with conventional photolithography, which is detrimental to ionic HPs and requires special techniques. Herein, a comprehensive overview of the state‐of‐the‐art technologies used to develop micro‐ and nanometer‐scale HP patterns, with an emphasis on their controlled microstructures based on top‐down and bottom‐up approaches, and their potential for future applications, is provided. Top‐down approaches include modified conventional lithographic techniques and soft‐lithographic methods, while bottom‐up approaches include template‐assisted patterning of HPs based on lithographically defined prepatterns and self‐assembly. HP patterning is shown here to not only improve device performance, but also to reveal the unprecedented functionality of HPs, leading to new research areas that utilize their novel photophysical properties.

 

한글

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태양 전지, 디스플레이 및 광 검출기를 포함한 고성능 광전자 장치에 사용하기 위한 박막 할라이드 페로브스카이트(HP)를 개발하기 위해 많은 노력을 기울였습니다. 또한, 주기적인 마이크로 패턴 또는 나노 패턴을 갖는 구조화 된 HP는 최근 HP 결정의 제어된 배치를 통해 개별 장치의 효율성을 개선 할뿐만 아니라 장치를 어레이로 기술적으로 픽셀화할 수 있는 잠재력으로인해 최근 상당한 관심을 끌었습니다. 향후 상용화에 적합합니다. 그러나 HP의 마이크로 패턴 또는 나노 패턴은 일반적으로 이온성 HP에 해롭고 특별한 기술이 필요한 기존의 포토리소그래피와 호환되지는 않습니다. 여기서는 하향식 및 상향식 접근 방식을 기반으로 제어 된 미세 구조와 미래의 잠재력을 강조하여 마이크로 및 나노 미터 규모의 HP 패턴을 개발하는데 사용되는 최신 기술에 대한 포괄적인 개요를 제공합니다. 응용 프로그램이 제공됩니다. 하향식 접근 방식에는 수정된 기존 리소그래피 기술과 소프트 리소그래피 방법이 포함되며 상향식 접근 방식에는 리소그래피로 정의 된 사전 패턴 및 자체 조립을 기반으로하는 HP의 템플릿 지원 패터닝이 포함됩니다. HP 패터닝은 여기에서 장치 성능을 향상시킬뿐만 아니라 HP의 전례없는 기능을 보여줌으로써 새로운 광 물리적 특성을 활용하는 새로운 연구 분야로 이어집니다.

 

 

출처: https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/adma.202000597

 

Micro‐ and Nanopatterning of Halide Perovskites Where Crystal Engineering for Emerging Photoelectronics Meets Integrated Devic

Micro‐ and nanopatterned halide perovskites (HPs) have recently attracted significant attention due to their controllable photophysical properties and unprecedented photoelectronic functionalities. A...

onlinelibrary.wiley.com

 

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